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ARC18-MS4多弧離子復合磁控濺射真空鍍膜機
詳細信息
ARC18-MS4多弧離子復合磁控濺射真空鍍膜機是針對衛(wèi)浴產(chǎn)品等大中型產(chǎn)品開發(fā)的裝飾鍍機型，其主要特性是滿足于高端衛(wèi)浴的鹽霧試驗要求。對于塑膠衛(wèi)浴產(chǎn)品，例如花灑可以穩(wěn)定通過銅鹽加速酸性鹽霧試驗 （CASS） 12小時，酸性鹽霧試驗（ASS）48小時。對于金屬類衛(wèi)浴產(chǎn)品，（銅合金、鋅合金、不銹鋼）例如龍頭可以穩(wěn)定通過銅鹽加速酸性鹽霧試驗 （CASS）24小時，酸性鹽霧試驗（ASS）96小時。而生產(chǎn)的顏色也可以滿足國際標準，可以生產(chǎn)科勒的BV色（香檳銅）、得爾達的CZ色（香檳金）、BZ色（香檳棕色）和AF色（淺鋯金）、VF色（深鋯金）。
具體技術規(guī)格如下：
| 真空室尺寸 | ?1800mm * H1600mm |
| 極限真空度 | 3.0*10-4Pa |
| 壓升率 | 0.33Pa/hr（常態(tài)） |
| 冷卻水 | 6ton/hr |
| 占據(jù)空間 | 4*4*2.5m3 |
| 真空室 | 304不銹鋼，單層內(nèi)襯，五年質(zhì)保 |
| 抽氣系統(tǒng) | 國產(chǎn)或進口分子泵+Leybold粗抽泵+羅茨泵 |
| 真空檢測 | 清華大學HY9940-1B |
| 流量控制 | Brooks/MKS/AE/匯博隆可選 |
| 轉(zhuǎn)架 | 上吊裝轉(zhuǎn)架 |
| 磁控濺射 | 2組（4支，柱狀磁控濺射靶） |
| 陰極電弧 | 4組（18套）（靶材規(guī)格100*40） |
| 偏壓電源 | 德國霍廷格偏壓Huettinger Bias 26KW 可選 美國AE 20KW偏壓 可選 或國產(chǎn)品牌偏壓 |
| 加熱系統(tǒng) | 最高200度，3根熱電偶監(jiān)測 |
| 冷卻水循環(huán)系統(tǒng) | 配日本SMC水流開關，智能控制 |
| 電氣元件 | 日本三菱PLC、端子、施耐德等空開、接觸器。 |
