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氣體離子刻蝕清洗及輔助沉積技術(shù)的基本原理如下：

① 在涂層前，利用氣體離子源將氬氣和氫氣離化，產(chǎn)生的氣體離子（Ar+和H+）在偏壓作用下，對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行刻蝕清洗；

② 在涂層中，利用氣體離子源將氬氣、氮?dú)狻⒀鯕獾确磻?yīng)氣體離化，輔助磁控濺射或電弧沉積；

氣體離子刻蝕清洗及輔助沉積優(yōu)點(diǎn)有：

① 氣體等離子體能量范圍寬，可強(qiáng)可弱，適用于各種類型的工件；

② 有效去除表面氧化層，刻蝕清洗效果更徹底，膜基結(jié)合力好；

③ 輔助沉積，有利于涂層致密性、改善鍍膜均勻性；