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  NewArc復合電弧蒸發(fā)技術(shù)是在傳統(tǒng)電弧蒸發(fā)技術(shù)的基礎上進行改進，其效果對比傳統(tǒng)電弧優(yōu)點如下：

        ①采用永磁和電磁的復合磁場驅(qū)動，弧斑移動更快，弧斑更細碎，有效抑制“微液滴”

        ②通過電磁場電壓和頻率的變化，能夠控制弧斑的運動，使得靶材燒蝕更加均勻，靶材利用率高

        ③復合磁場能夠?qū)⒌入x子體推向被鍍工件，增強了工件附近的等離子密度，改變了沉積反應環(huán)境

        ④可實現(xiàn)對涂層微觀組織結(jié)構(gòu)的有效調(diào)控，大幅度提高涂層的綜合性能。